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国内100纳米制造设备最初是工业化的

时间:2019-03-15 10:54:25 来源:九五至尊娱乐官网 作者:匿名



北京地区正在成为中国集成电路设备制造业的领导者。 9月28日,六家主要设备制造企业的两台——蚀刻机和??离子注入机的采购合同在北京签署,标志着国内100纳米制造设备的初步产业化。取得了历史性的突破。这一突破可以降低芯片成本,直接惠及人们。

一个家庭有100个筹码

“一个城市的普通家庭大约有100个筹码。”市工业促进局电子信息产业发展处处长梁胜告诉记者。没有芯片,我们不能看电视,我们不能用手机,我们不能听MP3。没有小芯片,我们的生活将完全不同。

梁胜说,芯片制造是一个复杂的过程。 “小芯片的生产有400多道工序,精度极高。例如,刻在芯片上的小凹槽只有头发的1/1000。”

在各种链路中,最高门槛和最有影响力的成本是芯片的制造设备。其中,蚀刻机和离子注入机是生产线的关键。

“过去,中国8英寸及以上的所有生产线都没有国产设备(8英寸是指硅片的尺寸,硅片越大,效率越高,但技术要求越高) “梁胜介绍说。以前的芯片制造设备必须依靠国外建立芯片生产线,而近80%的投资用于购买设备。但是,这种出口到中国的设备在国际上受到严格控制,即使销往中国,也会转移昂贵的制造成本。 “如果我们拥有自己的设备,我们的成本便宜三分之一。”

缩短与国际先进水平的距离

2002年11月,科技部同意北京市政府推出“100nm高密度等离子蚀刻机和大角度离子注入机”项目。北京电子控股有限公司与清华大学,北京大学,中国科学院,七星集团等股东共同组建了北微电子有限公司,承接等离子蚀刻机的研发。中国电子科技集团联合48家和45家公司组建北京中科信电子设备有限公司,承接离子注入机的研发。9月28日,世界知名芯片代工厂中芯国际与北微电子股份有限公司和中科信股份有限公司就蚀刻机和离子注入机签订采购合同,合同总价超过100万元。这标志着国家“十五”计划国家专业化863计划集成电路制造设备,—— 100nm高密度等离子刻蚀机和大角度离子注入机,初步实现了工业化,技术在核心设备开发芯片制造业。创新和自主创新取得了重大突破。

所谓100纳米是指刻在硅材料上的小凹槽宽度,从之前的0.25微米,0.18微米到0.13微米,直到现在进入纳米级。值越小,芯片的精度和集成度越高。

“这项重大创新打破了国际垄断,降低了芯片成本,直接使人民受益,并在市场上购买了更便宜的电视机,手机,电脑等。”梁胜说。

据报道,2002年,北京推出了100纳米高密度等离子蚀刻机和大角度离子注入机项目。中国的芯片制造设备技术最初与国际先进水平相差15至20年。这两种设备研制成功后,仅用了5年时间。

目前,8英寸产品已经实现工业化。 12英寸蚀刻机和离子注入机基本满足在线测试的条件。预计到今年年底将进入在线测试生产线。

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